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データストレージメディア

記録容量を飛躍的に向上させ
長期保存を実現する磁気記録テープ

微粒子化しても必要な磁気特性を維持し、メタル磁性体よりも低ノイズで周波数特性に優れ、長期保存性も高いバリウムフェライト(BaFe)磁性体を使用。独自技術で微粒子化した上で均一に分散・塗布した磁性層を作ることで、記録容量35TBの可能性を実証。

記録容量を飛躍的に向上させ長期保存を実現する磁気記録テープ

NANOCUBIC技術

BaFe磁性体を1600nm3まで微粒子化。29.5Gbpsiの面記録密度を実現し、データカートリッジの大容量化に貢献する。

NANOCUBIC技術

コア技術
  • 粒子形成技術
  • 機能性分子
  • 機能性ポリマー
  • ナノ分散技術
  • 精密塗布技術
基盤技術
  • 材料化学
  • 当社独自

完全無処理サーマルCTP印刷版XZ-R

現像液を使用しない「無処理CTP」により
優れた環境性能を実現した印刷版

アルカリ現像、ガム洗浄などの処理工程を廃し"真の完全無処理"を実現。環境負荷の低減に貢献するだけでなく、薬品や廃液の処理コストのゼロ化も達成。サーマルCTPセッターで高速で露光が完了したプレートを、すぐに印刷機にかけられる。

完全無処理サーマルCTP印刷版XZ-R

FPD技術とRSS技術

感光層に特殊な微細粒子を分散させることで、画像形成性と画像部強度を同時に確保するFPD(Fine Particle Dispersion)技術と、「画像部の強度」と「非画像部の除去性」という相反する性能を両立させ、高速で安定した画像形成を実現するRSS(Rapid Stable Start-up)技術を使用。

コア技術
  • 粒子形成技術
  • 機能性分子
  • 機能性ポリマー
  • 酸化還元制御技術
  • ナノ分散技術
  • 精密塗布技術
基盤技術
  • 材料化学
  • 画像

チェキ

撮ったその場でプリントが楽しめる
世界で唯一のインスタント写真システム

思い立ったら、すぐに撮って、プリントできるインスタント写真システム。撮影後すぐにフィルム内に現像液が展開されることで、感光に応じて放出された色材が、受像層に画像として固定され、その場でプリントが得られる"オンリーワン技術"を使用。

チェキ

完全一体構成のフィルム

約10µmの厚みに18層の「感光層・色材放出層」を有し、さらに色材を固定する「受像層」、「現像液ポッド」、「現像コントロール層」など、感光→ 現像→プリントと、画像形成に必要な材料がすべて詰まった"究極の写真システム"。

コア技術
  • 粒子形成技術
  • 機能性分子
  • 機能性ポリマー
  • 酸化還元制御技術
  • ナノ分散技術
  • 精密塗布技術
  • 製膜技術
  • 精密成形技術
  • 撮像技術
  • システム設計
基盤技術
  • 材料化学
  • 光学
  • 画像
  • 世界唯一

ArF液浸用トップコートレスフォトレジスト(半導体プロセス材料)

疎水から親水へ。極性変換技術が実現した
トップコート不要のフォトレジスト

極性変換技術により、露光時には疎水的(水を弾く)なレジスト表面を、現像時には親水的(水になじむ)に変化させることで、露光時に起きるウエハー成分の水への溶け出しを防ぐためのトップコートが不要に。

ArF液浸用トップコートレスフォトレジスト(半導体プロセス材料)

ArF液浸プロセス

レンズとウエハーの間に屈折率の高い水を入れることで、解像度を高める技術。光源やフォトマスクを変えずに微細加工が可能。

ArF液浸プロセス

コア技術
  • 粒子形成技術
  • 機能性分子
  • 機能性ポリマー
  • 酸化還元制御技術
  • ナノ分散技術
基盤技術
  • 材料化学
  • 光学
  • 当社独自

NTIフォトレジスト(半導体プロセス材料)

ネガ型画像形成方式によって回路パターンの
画期的な微細化を実現したフォトレジスト

露光した部分がシリコンウエハー上に残るネガ型画像形成方式を導入。従来のポジ型を超える微細な回路パターンの製造を実現し、半導体の性能向上に大きく貢献。感度も高いため、タクトタイムの短縮も可能。

NTIフォトレジスト(半導体プロセス材料)

ネガ型画像形成方式

ポジ型と比べてフォトマスクの光通過部分の面積を広く取れるため、現状の露光システムでも微細なパターンが形成できる。

ネガ型画像形成方式

コア技術
  • 粒子形成技術
  • 機能性分子
  • 機能性ポリマー
  • 酸化還元制御技術
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基盤技術
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  • 光学
  • 当社独自

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