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instax(チェキ)

撮ったその場でプリントが楽しめる
世界で唯一のインスタント写真システム

思い立ったら、すぐに撮って、プリントできるインスタント写真システム。撮影後すぐにフィルム内に現像液が展開されることで、感光に応じて放出された色材が、受像層に画像として固定され、その場でプリントが得られる“オンリーワン技術”を使用。

粒子形成技術 機能性分子 機能性ポリマー 酸化還元制御技術 ナノ分散技術 精密塗布技術 製膜技術 精密成型技術 撮像技術 システム設計 材料化学 画像 光学

完全一体構成のフィルム

約10μmの厚みに18層の「感光層・色材放出層」を有し、さらに色材を固定する「受像層」、「現像液ポッド」、「現像コントロール層」など、感光→現像→プリントと、画像形成に必要な材料がすべて詰まった“究極の写真システム”。

データストレージメディア

記録容量を飛躍的に向上させ
長期保存を実現する磁気記録テープ

微粒子化しても必要な磁気特性を維持し、メタル磁性体よりも低ノイズで周波数特性に優れ、長期保存性に優れたバリウムフェライト(BaFe)磁性体を使用。独自技術で微粒子化したBaFe磁性体を均一に分散し、数十nmの厚みに塗布した磁性層を作ることで、記録容量220TBの可能性を実証。

粒子形成技術 機能性分子 機能性ポリマー ナノ分散技術 精密塗布技術 材料化学

NANOCUBIC技術

BaFe磁性体を1600nm3まで微粒子化。123Gbpsiの面記録密度を実現し、データカートリッジの大容量化に貢献する。

完全無処理サーマルCTP印刷版
SUPERIA

現像液を使用しない「無処理CTP」により
優れた環境性能を実現した印刷版

アルカリ現像、ガム処理などの処理工程を廃し“真の完全無処理”を実現。環境負荷の低減に貢献するだけでなく、薬品や廃液の処理コストのゼロ化も達成。サーマルCTPセッターで露光完了したプレートを、すぐに印刷機にかけられる。

粒子形成技術 機能性分子 機能性ポリマー 酸化還元制御技術 ナノ分散技術 材料化学 画像

HDN技術とMGZ技術

従来技術のFPD技術とRSS技術をベースに、独自の高速ラジカル重合技術を超高速に進化させ、反応効率を従来比約3倍に向上。画像部強度を高めたHDN技術*1と、MGV砂目技術を極限まで進化させ、表層側のマイクロポア径のみを拡大する多段構造化により、耐刷性と耐汚性を向上したMGZ技術*2を使用。

*1:Hyper Dimension Networking Technology
*2:Multi Grain Z Technology

ガラス装飾用フィルム

高い耐傷性とUVインク密着性を両立し、
ガラスに多様なデザイン装飾が可能

PETフィルムにUV硬化性のハードコート層を塗布し、耐傷性を付与。UVインクを積層する際にUV照射による追加硬膜を起こすことで、UV硬化樹脂とPETフィルムの高い密着性を実現。

製膜技術 精密塗布技術 材料化学 光学

耐傷性とUVインク密着性

独自の製膜・精密塗布技術により、耐傷性とUVインク密着性のいずれも従来品を上回る性能を発揮。

RFIDソリューション

ICカード・タグとリーダライタのすべての
要素技術を有する無線通信ソリューション

入退室管理や在庫管理などに活用できる、人や物を個別IDで管理するシステム。無線通信を利用しているため、梱包状態で中身を識別できるほか、UHF帯を使用すれば3~5m離れた距離でも読み取り可能。ICカード・タグとリーダライタの設計から導入まで一貫して対応する。

システム設計 画像

リーダライタ

各種ICタグ

アンテナチューニング

独自のアナログ回路技術を活用し、カップリングデバイスであるICカード・タグとリーダライタの動的インピーダンスを考慮して最適なアンテナ設計を行う。

ROUNDCHECK

製造現場の日常点検を効率化する
無線式振動データ収集システム

対象設備にピックアップ&無線機を装着すると、振動データを定期的に自動計測。点検者が収集端末を持って巡回するだけで、計測データが無線通信で端末に転送され、PCで内容を確認できる。

システム設計

フィルム製造の設備点検ノウハウを応用

多数の回転機器・軸受を持つフィルム製造設備を安定稼働させるには、振動データの効率的な収集・管理が不可欠。暗室やクリーンルームなど容易に設備に近づけない環境下で連続稼働の生産を行う中、異常兆候を確実にとらえるために確立した富士フイルムの社内ノウハウを応用している。

カッパーCMPスラリー半導体プロセス材料

金属や絶縁膜などが混在する半導体基板面を
ミクロな単位で平滑にする研磨剤

電気化学反応や数多くの機能性素材の技術を基に、ディッシングやエロージョンを抑えつつ、高速で均一なCu研磨に貢献。また、バリアー研磨では個別の基板に合わせたケミストリーの最適化により、対象部材ごとに望ましい研磨選択比を実現する。

粒子形成技術 機能性分子 機能性ポリマー 酸化還元制御技術 ナノ分散技術 材料化学 光学

クリーナー半導体プロセス材料

半導体基板の洗浄と不純物除去に用いられる洗浄薬液

レジストの除去からプロセス残渣の除去まで、半導体基板の幅広い製造プロセスに対応する洗浄薬液。半導体の製造において、製造プロセスが変わるごとに発生する半導体基板の「洗浄」と「不純物の除去」という“永遠のテーマ”の解決をサポート。

粒子形成技術 機能性分子 機能性ポリマー 酸化還元制御技術 ナノ分散技術 材料化学 光学


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