研究報告 No.56 2011年 研究報告書
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研究報告書（全文）
- No.56 2011年 研究報告書
（PDF:8.1MB）
研究報告書（分割版）
- 機能性化粧品「アスタリフト ジェリー アクアリスタ」の開発（PDF:1.6MB）
| 研究者 | 田代 朋子、中畝 明菜、小杉 拓治、荒河 純、森 久容、芹澤 慎一郎、鈴木 啓一、森 冬比古、織笠 敦、中村 善貞 |
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- 膵由来リパーゼに特異性の高い「富士ドライケムスライドv-LIP-P」の開発（PDF:1.3MB）
| 研究者 | 中村 健太郎、景山 茂樹、田中 秀明、川崎 和也、寺島 薫 |
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- 軽量レトロフィット・カセッテDR「CALNEO C」の開発（PDF:1.5MB）
| 研究者 | 田中 哲哉、榎本 淳、鍋田 敏之、吉田 太、小田 泰史、北田 信 |
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- 環境対応サーマルCTP システム「ECONEX」の開発（PDF:1.3MB）
| 研究者 | 青島 徳生、渡辺 年宏 |
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- 多層ディスク用2 光子増感型光記録材料の開発（PDF:1.0MB）
| 研究者 | 秋葉 雅温、高橋 依里、滝沢 裕雄、佐々木 俊央、望月 英宏、見上 竜雄、北原 淑行 |
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- 画像技術を応用した携帯電話向けサーバサイドWebブラウザ「GT-Browser」の開発（PDF:741KB）
| 研究者 | 渡辺 健太郎、宮本 隆司、沢野 哲也、浅井 有人、羽田 典久 |
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- コンシューマ・フォト向けソフトウエア開発における仮説検証プロセスの適用（PDF:937KB）
| 研究者 | 松本 徹也、山路 啓、塚越 一真、松原 俊夫 |
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- ソフトウエア開発における統計的プロジェクト管理手法の導入と実践（PDF:892KB）
| 研究者 | 相磯 正司（*1）、湯浅 耕季（*1）、鈴木 圭一 |
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- 次世代のデジタル映像制作工程：AMPAS-IIF 規格化への技術貢献（PDF:2.6MB）
| 研究者 | 岩城 康晴、内田 充洋 |
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- PS版カーボン・フットプリント指標標準による当社環境配慮活動の可視化（PDF:1.4MB）
| 研究者 | 朝倉 克宜、吉川 直紀、大貫 良子 |
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- *1 印は富士フイルム株式会社以外の研究者または共同研究者
転載リスト
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半導体可飽和吸収ミラーを用いた手のひらサイズ、ピークパワー1.5kW、フェムト秒（160fs）、
半導体レーザー励起モード同期固体（Yb+3:KY（WO4）2）レーザー
| 研究者 | 山添 昇吾、加藤 雅紀、足立 貴志、笠松 直史 |
|---|---|
| 掲載誌 | Optics Letters, 35（5）, 748-750 （2010）. |
キナクリドンナノ粒子の光励起状態と耐光性
| 研究者 | 宮下 陽介、横山 裕、田邊 守、笠井 均（*1）、中西 八郎（*1）、宮下 徳治（*1） |
|---|---|
| 掲載誌 | Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 201（2-3）, 208-213 （2009）. |
超解像有機レジスト材料により40nmパターンを描画可能な405nmレーザ熱リソグラフィ
| 研究者 | 宇佐美 由久、渡辺 哲也、金澤 吉憲、多賀 一晃、川合 浩司、市川 紀美雄 |
|---|---|
| 掲載誌 | Applied Physics Express, 2（12）, 126502-1－126502-3 （2009）. |
BiXO3 におけるボルン有効電荷と圧電係数
| 研究者 | 奥野 幸洋、坂下 幸雄 |
|---|---|
| 掲載誌 | Japanese Journal of Applied Physics, 48（9）, 09KF04-1－09KF04-4 （2009）. |
高記録密度テープストレージシステム用塗布型バリウムフェライト媒体
| 研究者 | 原澤 建、鈴木 涼太、清水 治、Sedat Ölçer（*1）、Evangelos Eleftheriou（*1） |
|---|---|
| 掲載誌 | IEEE Transactions on Magnetics, 46（6）, 1894-1897 （2010）. |
新規剥離法を用いたエアロゾルデポジション法による積層圧電素子の作製
| 研究者 | 三好 哲 |
|---|---|
| 掲載誌 | Journal of the Ceramic Society of Japan, 117（1368）, 899-903 （2009）. |
C60 ドープ高分子層とa-Seを用いたデジタルラジオグラフィー用大面積直接変換検出器の新規開発
| 研究者 | 成行 書史、今井 真二、渡野 弘隆、鍋田 敏之、細井 雄一 |
|---|---|
| 掲載誌 | Proceeding of SPIE, Medical Imaging 2010: Phyjics of Medical Image, 7622, 762240-1-762240-7 （2010）. |
低ヘイズVA補償TACフィルムの開発およびVAパネルのコントラスト比改善のための補償フィルム配置の提案
| 研究者 | 網中 英一郎、林 秀典、中山 元、石黒 誠、齊藤 之人、伊藤 洋士、御林 慶司、木島 まどか、田中 秀明 |
|---|---|
| 掲載誌 | SID 10 Digest of Technical Papers, 41, BookⅡ, 822-825 （2010）. |
光学補償フィルムによるVA-LCDの正面光漏れ低減
| 研究者 | 石黒 誠、関口 恵、齊藤 之人、石原 信、宮﨑 桂一、御林 慶司 |
|---|---|
| 掲載誌 | SID 10 Digest of Technical Papers, 41, BookⅡ, 826-829 （2010）. |
パブリックディスプレイに適した新規クリアARフイルム
| 研究者 | 及川 徳樹、鈴木 貴登、三森 悠太郎、渡部 淳、須賀 陽一、御林 慶司 |
|---|---|
| 掲載誌 | SID 10 Digest of Technical Papers, 41, BookⅡ, 1548-1551 （2010）. |
EUVリソグラフィーにおける解像性とLWRの酸拡散コントロールでの改良
| 研究者 | 椿 英明、土橋 徹、土村 智孝 |
|---|---|
| 掲載誌 | Proceeding of SPIE, Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI, 7273, 72731K-1-72731K-8 （2010）. |
ダブルパターニング用ネガトーン現像プロセスへのプロセスパラメータの影響
| 研究者 | 樽谷 晋司、上村 聡、横山 滋郎（*1） |
|---|---|
| 掲載誌 | Proceeding of SPIE, Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVII, 7639, 76391Q-1-76391Q-8 （2010）. |
- *1 印は富士フイルム株式会社以外の研究者または共同研究者
